超精微纳加工及光学检测论坛(已结束)
8th March, 2024 10:30-12:30
Technical Theatre , B2
主办机构
Informa Markets
APE亚洲光电博览会
合作主办
复旦大学 上海超精密光学制造工程技术研究中心
香港应用科技研究院
会议简介
MEMS工艺、纳米压印、丝网印刷、飞秒激光刻蚀、光刻工艺等微纳制造技术,都是以“光”为媒介,展示了微纳光学在光学学科中的活跃地位。这些技术能在微纳尺度光与物质相互作用基础上实现许多全新的功能,成为21世纪国家不可或缺的关键科学和技术。微纳加工技术在芯片、结构功能材料、光电子材料与器件等领域的研究和制造中发挥着不可或缺的作用。
超精密加工技术作为微纳光学元器件的主要制备方法。未来将向高精度、高效率、大型化、微型化、智能化、工艺整合化、在线加工检测一体化、绿色化等方向发展。这些发展方向将推动更多新颖微纳加工技术涌现,不同功能的微纳结构及器件将会得到更多的应用,也将助力人类开发出更多新型微纳米器件及系统。
相信未来50年将是超精微纳光学技术蓬勃发展的时代!为了进一步促进超精微纳光学自身快速发展及其在应用领域的产业融合,实现行业发展的关键性突破。2024年3月8日上午,“超精微纳加工及光学检测论坛” 将特邀微纳光学领域、光学精密加工、光学检测等知名企业与专家学者,从技术端牵引,结合热门应用领域,深入探讨纳米压印、微纳直写光刻技术、灰度高光的光刻、精密加工、光学检测等相关话题,搭建产业链大平台。助力微纳光学发展及新型微纳光学元器件商业化落地。
大会议程
超精微纳加工及光学检测论坛 | |||
时间 | 演讲题目 | 演讲嘉宾 | |
嘉宾主持:杨光威(Joel Yang) 新加坡科技设计大学 教授、研究和发展方向 副院长、纳米研究实验室 负责人、工业产品开发学院 负责人 | |||
10:30-10:35 | 会议开场 | ||
10:35-10:55 | 结构色彩和微光学的纳米级3D打印 | 杨光威(Joel Yang) 新加坡科技设计大学 教授、研究和发展方向 副院长、纳米研究实验室 负责人、工业产品开发学院 负责人 | |
10:55-11:15 | 双光子灰度光刻技术(2GL®)和对准双光子光刻技术(A2PL®)的最新进展 | 崔万银 Nanoscribe GmbH & Co. KG 中国区总经理 | |
11:15-11:35 | 利用纳米压印光刻实现超透镜的大批量制备 | 刘宏 新加坡科技研究局(A*STAR)材料研究与工程研究所 首席科学家 | |
11:35-11:55 | 校正光刻制程对超颖透镜性能影响的设计流程 | 胡理策 新思科技 资深光学应用工程师 | |
11:55-12:15 | 分光光度法光学表征技术的研究进展 | Travis Burt 安捷伦 全球产品经理 |
*议程请以现场实际为准
嘉宾介绍
杨光威(Joel Yang)
新加坡科技设计大学 教授、研究和发展方向 副院长、纳米研究实验室 负责人、工业产品开发学院 负责人
崔万银
总经理 Nanoscribe GmbH & Co. KG
刘宏
首席科学家
新加坡科技研究局(A*STAR)材料研究与工程研究所
胡理策
资深光学应用工程师
新思科技
Travis Burt
Global Product Manager – Cary UV-Vis-NIR Spectrophotometers of Agilent Technologies, Australia.
*以上排名不分先后